熱處理設備的分類介紹

　　熱處理設備可分為立式爐、臥式爐和快速熱處理爐

　　立式爐：立式爐的主要控制系統分為爐管、硅片傳動系統、氣體分配系統、廢氣系統和控制系統五個部分。爐管是加熱硅片的地方，由垂直石英鐘蓋、多區加熱電阻線和加熱管套組成。硅片傳動系統的主要功能是在爐管中裝卸硅片。硅片裝卸由自動機械完成，自動機械在平臺、爐、平臺和冷卻平臺之間移動。氣體分配系統將正確的氣流傳輸到爐管，以保持爐內的氣氛。

　　廢氣系統位于爐管一端的通孔，用于完全清除氣體及其副產品。控制系統(微控制器)控制爐的所有操作，包括工藝時間和溫度控制、工藝步驟順序、氣體類型、氣流速率、溫升速率、裝卸硅片等。每個微控制器都是主計算機的接口。與水平爐相比，垂直爐可以減少面積，更好地控制溫度和均勻性。

　　臥式爐：其石英管水平放置，用于放置和加熱硅片。其主控系統與立式爐一樣分為五個部分。

　　快速熱處理爐(RTP)：快速加熱爐(RTP)是一種小型快速加熱系統，使用鹵素紅外燈作為熱源，可以快速提高硅片溫度到加工溫度，減少工藝穩定所需的時間，并在工藝結束后快速冷卻。與傳統的垂直爐相比，快速加熱爐(RTP)的溫度控制更先進，主要區別在于其快速加熱、特殊的硅片加載裝置、強制空氣冷卻和更好的溫度控制器。特殊的硅片加載裝置增加了硅片之間的間隙，使硅片之間的加熱或冷卻更加均勻。

　　傳統的立式爐采用熱電偶進行溫度測量和控制，快速升溫爐(RTP)采用模塊化溫度控制，允許對硅片進行單獨的加熱和冷卻，而不僅僅是控制爐內的大氣。此外，大批量硅片(150-200片)和加熱率之間存在折衷。快速加熱爐(RTP)適用于小批量(50-100片)，以提高加熱率，因為同時處理的硅片較少，這種小批量也可以改善工藝中的局部氣流。